作者在综合近年来有关膏剂渗金属法文献的基础上,较系统地用这种方法在低真空和微氧化性气氛中作了各种工艺实验。其中渗V、渗Cr、B—Al二元共渗和B—V二元共渗以及Cr—Al—Si—B四元共渗法已成功地用于钢铁的试样上。文章论述了实验过程和所作的光学、电子显微分析、电子探针分析及显微硬度,抗蚀性等试验结果。对于膏剂渗金属法的机理,本文亦作了初步探讨。
刘建设,肖文楚,屈秀敏.膏剂渗金属法的初步探讨[J].上海理工大学学报,1984,(2).